推薦合適期刊 投稿指導 助力快速見刊免費咨詢
Materials Letters是材料科學領域的一本優秀期刊。由Elsevier出版社出版。該期刊主要發表材料科學領域的原創性研究成果。創刊于1982年,該期刊主要刊載工程技術-材料科學:綜合及其基礎研究的前瞻性、原始性、首創性研究成果、科技成就和進展。該期刊不僅收錄了該領域的科技成就和進展,更以其深厚的學術積淀和卓越的審稿標準,確保每篇文章都具備高度的學術價值。此外,該刊同時被SCIE數據庫收錄,并被劃分為中科院SCI4區期刊,它始終堅持創新,不斷專注于發布高度有價值的研究成果,不斷推動材料科學領域的進步。
同時,我們注重來稿文章表述的清晰度,以及其與我們的讀者群體和研究領域的相關性。為此,我們期待所有投稿的文章能夠保持簡潔明了、組織有序、表述清晰。該期刊平均審稿速度為平均 約2.3個月 約6.3周。若您對于稿件是否適合該期刊存在疑慮,建議您在提交前主動與期刊主編取得聯系,或咨詢本站的客服老師。我們的客服老師將根據您的研究內容和方向,為您推薦最為合適的期刊,助力您順利投稿,實現學術成果的順利發表。
大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
材料科學 | 4區 | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 4區 4區 | 否 | 否 |
大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
材料科學 | 3區 | PHYSICS, APPLIED 物理:應用 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 | 3區 4區 | 否 | 否 |
大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
材料科學 | 3區 | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 3區 3區 | 否 | 否 |
大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術 | 3區 | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 4區 3區 | 否 | 否 |
大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
材料科學 | 3區 | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 3區 3區 | 否 | 否 |
大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
材料科學 | 3區 | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 3區 3區 | 否 | 否 |
按JIF指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
學科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q3 | 238 / 438 |
45.8% |
學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 76 / 179 |
57.8% |
按JCI指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
學科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q2 | 206 / 438 |
53.08% |
學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 76 / 179 |
57.82% |
學科類別 | 分區 | 排名 | 百分位 |
大類:Engineering 小類:Mechanical Engineering | Q1 | 157 / 672 |
76% |
大類:Engineering 小類:Mechanics of Materials | Q2 | 105 / 398 |
73% |
大類:Engineering 小類:Condensed Matter Physics | Q2 | 120 / 434 |
72% |
大類:Engineering 小類:General Materials Science | Q2 | 160 / 463 |
65% |
年份 | 2014 | 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 |
年發文量 | 1887 | 1843 | 1891 | 1826 | 1805 | 1813 | 1667 | 2553 | 1889 | 1806 |
國家/地區 | 數量 |
CHINA MAINLAND | 3118 |
India | 560 |
USA | 300 |
South Korea | 288 |
Russia | 192 |
Japan | 183 |
GERMANY (FED REP GER) | 117 |
Brazil | 114 |
England | 106 |
Iran | 99 |
機構 | 數量 |
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES | 334 |
INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY SYSTEM (IIT SYSTEM) | 91 |
RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES | 90 |
HARBIN INSTITUTE OF TECHNOLOGY | 86 |
NATIONAL INSTITUTE OF TECHNOLOGY (NIT SYSTEM) | 85 |
CENTRAL SOUTH UNIVERSITY | 77 |
CHONGQING UNIVERSITY | 77 |
NORTHWESTERN POLYTECHNICAL UNIVERSITY | 73 |
UNIVERSITY OF SCIENCE & TECHNOLOGY BEIJING | 70 |
SHANGHAI JIAO TONG UNIVERSITY | 69 |
文章名稱 | 引用次數 |
Synthesis and microstructure of the (Co,Cr,Fe,Mn,Ni)(3)O-4 high entropy oxide characterized by spinel structure | 51 |
Fabrication of compressible and underwater superoleophobic carbon/g-C3N4 aerogel for wastewater purification | 46 |
Mesophase pitch based carbon foams as sound absorbers | 39 |
Facile loading mesoporous Co3O4 on nitrogen doped carbon matrix as an enhanced oxygen electrode catalyst | 37 |
Large-angle mid-infrared absorption switch enabled by polarization-independent GST metasurfaces | 29 |
Temperature-induced molecular orientation and mechanical properties of single electrospun polyimide nanofiber | 29 |
Facile synthesis and characterization of interface charge transfer heterojunction of Bi2MoO6 modified by Ag/AgCl photosensitive material with enhanced photocatalytic activity | 28 |
Printability and microstructure of the CoCrFeMnNi high-entropy alloy fabricated by laser powder bed fusion | 28 |
Dual-band plasmonic perfect absorber based on all-metal nanostructure for refractive index sensing application | 26 |
Synthesis and characterization of MnWO4/TmVO4 ternary nano-hybrids by an ultrasonic method for enhanced photocatalytic activity in the degradation of organic dyes | 25 |
SCIE
CiteScore 2
SCIE
影響因子 15.3
CiteScore 21.9
SCIE
CiteScore 0.1
SCIE
CiteScore 10.3
SCIE
影響因子 0.8
CiteScore 1.3
SCIE
影響因子 14.8
CiteScore 13.8
SCIE
SCIE
影響因子 0.6
CiteScore 1.4
SCIE
影響因子 1.7
SCIE
影響因子 12.6
CiteScore 17.8
若用戶需要出版服務,請聯系出版商:ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1000 AE。