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          Infrared Physics & Technology
          人氣:69

          Infrared Physics & Technology SCIE

          • ISSN:1350-4495
          • 出版商:Elsevier
          • 出版語言:English
          • E-ISSN:1879-0275
          • 出版地區(qū):NETHERLANDS
          • 是否預警:
          • 創(chuàng)刊時間:1994
          • 出版周期:Bimonthly
          • TOP期刊:
          • 影響因子:3.1
          • 是否OA:未開放
          • CiteScore:5.7
          • H-index:56
          • 研究類文章占比:99.16%
          • Gold OA文章占比:4.48%
          • 文章自引率:0.1212...
          • 開源占比:0.0259
          • OA被引用占比:0.0214...
          • 出版國人文章占比:0.54
          • 出版修正文章占比:0.0025...
          • 國際標準簡稱:INFRARED PHYS TECHN
          • 涉及的研究方向:光學-物理
          • 中文名稱:紅外物理與技術(shù)
          • 預計審稿周期: 約3.0個月 約8.1周
          國內(nèi)分區(qū)信息:

          大類學科:物理與天體物理  中科院分區(qū)  3區(qū)

          國際分區(qū)信息:

          JCR學科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION、OPTICS、PHYSICS, APPLIED  JCR分區(qū)  Q2

          • 影響因子:3.1
          • Gold OA文章占比:4.48%
          • OA被引用占比:0.0214...
          • CiteScore:5.7
          • 研究類文章占比:99.16%
          • 開源占比:0.0259
          • 文章自引率:0.1212...
          • 出版國人文章占比:0.54

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          Infrared Physics & Technology 期刊簡介

          Infrared Physics & Technology是物理與天體物理領域的一本優(yōu)秀期刊。由Elsevier出版社出版。該期刊主要發(fā)表物理與天體物理領域的原創(chuàng)性研究成果。創(chuàng)刊于1994年,該期刊主要刊載光學-物理及其基礎研究的前瞻性、原始性、首創(chuàng)性研究成果、科技成就和進展。該期刊不僅收錄了該領域的科技成就和進展,更以其深厚的學術(shù)積淀和卓越的審稿標準,確保每篇文章都具備高度的學術(shù)價值。此外,該刊同時被SCIE數(shù)據(jù)庫收錄,并被劃分為中科院SCI3區(qū)期刊,它始終堅持創(chuàng)新,不斷專注于發(fā)布高度有價值的研究成果,不斷推動物理與天體物理領域的進步。

          同時,我們注重來稿文章表述的清晰度,以及其與我們的讀者群體和研究領域的相關(guān)性。為此,我們期待所有投稿的文章能夠保持簡潔明了、組織有序、表述清晰。該期刊平均審稿速度為平均 約3.0個月 約8.1周。若您對于稿件是否適合該期刊存在疑慮,建議您在提交前主動與期刊主編取得聯(lián)系,或咨詢本站的客服老師。我們的客服老師將根據(jù)您的研究內(nèi)容和方向,為您推薦最為合適的期刊,助力您順利投稿,實現(xiàn)學術(shù)成果的順利發(fā)表。

          Infrared Physics & Technology 期刊國內(nèi)分區(qū)信息

          中科院分區(qū) 2023年12月升級版
          大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
          物理與天體物理 3區(qū) INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
          中科院分區(qū) 2022年12月升級版
          大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
          物理與天體物理 2區(qū) INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
          中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級版
          大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
          物理與天體物理 2區(qū) INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
          中科院分區(qū) 2021年12月基礎版
          大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
          物理 3區(qū) INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū)
          中科院分區(qū) 2021年12月升級版
          大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
          物理與天體物理 2區(qū) INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
          中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級版
          大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
          物理與天體物理 2區(qū) OPTICS 光學 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

          Infrared Physics & Technology 期刊國際分區(qū)信息(2023-2024年最新版)

          按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
          學科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 25 / 76

          67.8%

          學科:OPTICS SCIE Q2 37 / 119

          69.3%

          學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 63 / 179

          65.1%

          按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
          學科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 24 / 76

          69.08%

          學科:OPTICS SCIE Q2 43 / 120

          64.58%

          學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 55 / 179

          69.55%

          CiteScore指數(shù)(2024年最新版)

          • CiteScore:5.7
          • SJR:0.565
          • SNIP:1.043
          學科類別 分區(qū) 排名 百分位
          大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q2 116 / 434

          73%

          大類:Physics and Astronomy 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q2 63 / 224

          72%

          大類:Physics and Astronomy 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 83 / 284

          70%

          期刊評價數(shù)據(jù)趨勢圖

          中科院分區(qū)趨勢圖
          期刊影響因子和自引率趨勢圖

          發(fā)文統(tǒng)計

          年發(fā)文量統(tǒng)計
          年份 2014 2015 2016 2017 2018 2019 2020 2021 2022 2023
          年發(fā)文量 214 249 262 237 336 338 390 370 438 475
          國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計
          國家/地區(qū) 數(shù)量
          CHINA MAINLAND 690
          India 61
          USA 58
          Iran 39
          England 32
          Poland 30
          Russia 28
          South Korea 23
          Canada 22
          Italy 19
          機構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計
          機構(gòu) 數(shù)量
          CHINESE ACADEMY OF SCIENCES 130
          HARBIN INSTITUTE OF TECHNOLOGY 62
          TIANJIN UNIVERSITY 40
          SHANGHAI INSTITUTE OF TECHNICAL PHYSICS, CAS 33
          NANJING UNIVERSITY OF SCIENCE & TECHNOLOGY 24
          CHANGCHUN UNIVERSITY OF SCIENCE & TECHNOLOGY 23
          UNIVERSITY OF ELECTRONIC SCIENCE & TECHNOLOGY OF CHINA 21
          BEIHANG UNIVERSITY 20
          HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE & TECHNOLOGY 18
          RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES 18

          高引用文章

          文章名稱 引用次數(shù)
          Optical remote sensing image enhancement with weak structure preservation via spatially adaptive gamma correction 28
          Towards a table-top synchrotron based on supercontinuum generation 19
          Robust contact-point detection from pantograph-catenary infrared images by employing horizontal-vertical enhancement operator 19
          Two dimensional materials based photodetectors 17
          An overview of corrosion defect characterization using active infrared thermography 17
          Nondestructive measurement of soluble solids content in apple using near infrared hyperspectral imaging coupled with wavelength selection algorithm 16
          Infrared and visible image fusion with ResNet and zero-phase component analysis 16
          An infrared small target detection method based on multiscale local homogeneity measure 12
          Infrared small target detection based on local intensity and gradient properties 11
          Midwave infrared barrier detector based on Ga-free InAs/InAsSb type-II superlattice grown by molecular beam epitaxy on Si substrate 11

          免責聲明

          若用戶需要出版服務,請聯(lián)系出版商:ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1000 AE。

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