推薦合適期刊 投稿指導 助力快速見刊免費咨詢
Infrared Physics & Technology是物理與天體物理領域的一本優(yōu)秀期刊。由Elsevier出版社出版。該期刊主要發(fā)表物理與天體物理領域的原創(chuàng)性研究成果。創(chuàng)刊于1994年,該期刊主要刊載光學-物理及其基礎研究的前瞻性、原始性、首創(chuàng)性研究成果、科技成就和進展。該期刊不僅收錄了該領域的科技成就和進展,更以其深厚的學術(shù)積淀和卓越的審稿標準,確保每篇文章都具備高度的學術(shù)價值。此外,該刊同時被SCIE數(shù)據(jù)庫收錄,并被劃分為中科院SCI3區(qū)期刊,它始終堅持創(chuàng)新,不斷專注于發(fā)布高度有價值的研究成果,不斷推動物理與天體物理領域的進步。
同時,我們注重來稿文章表述的清晰度,以及其與我們的讀者群體和研究領域的相關(guān)性。為此,我們期待所有投稿的文章能夠保持簡潔明了、組織有序、表述清晰。該期刊平均審稿速度為平均 約3.0個月 約8.1周。若您對于稿件是否適合該期刊存在疑慮,建議您在提交前主動與期刊主編取得聯(lián)系,或咨詢本站的客服老師。我們的客服老師將根據(jù)您的研究內(nèi)容和方向,為您推薦最為合適的期刊,助力您順利投稿,實現(xiàn)學術(shù)成果的順利發(fā)表。
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 3區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理 | 3區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | OPTICS 光學 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 | 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q2 | 25 / 76 |
67.8% |
學科:OPTICS | SCIE | Q2 | 37 / 119 |
69.3% |
學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 63 / 179 |
65.1% |
按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q2 | 24 / 76 |
69.08% |
學科:OPTICS | SCIE | Q2 | 43 / 120 |
64.58% |
學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 55 / 179 |
69.55% |
學科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics | Q2 | 116 / 434 |
73% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q2 | 63 / 224 |
72% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q2 | 83 / 284 |
70% |
年份 | 2014 | 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 |
年發(fā)文量 | 214 | 249 | 262 | 237 | 336 | 338 | 390 | 370 | 438 | 475 |
國家/地區(qū) | 數(shù)量 |
CHINA MAINLAND | 690 |
India | 61 |
USA | 58 |
Iran | 39 |
England | 32 |
Poland | 30 |
Russia | 28 |
South Korea | 23 |
Canada | 22 |
Italy | 19 |
機構(gòu) | 數(shù)量 |
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES | 130 |
HARBIN INSTITUTE OF TECHNOLOGY | 62 |
TIANJIN UNIVERSITY | 40 |
SHANGHAI INSTITUTE OF TECHNICAL PHYSICS, CAS | 33 |
NANJING UNIVERSITY OF SCIENCE & TECHNOLOGY | 24 |
CHANGCHUN UNIVERSITY OF SCIENCE & TECHNOLOGY | 23 |
UNIVERSITY OF ELECTRONIC SCIENCE & TECHNOLOGY OF CHINA | 21 |
BEIHANG UNIVERSITY | 20 |
HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE & TECHNOLOGY | 18 |
RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES | 18 |
文章名稱 | 引用次數(shù) |
Optical remote sensing image enhancement with weak structure preservation via spatially adaptive gamma correction | 28 |
Towards a table-top synchrotron based on supercontinuum generation | 19 |
Robust contact-point detection from pantograph-catenary infrared images by employing horizontal-vertical enhancement operator | 19 |
Two dimensional materials based photodetectors | 17 |
An overview of corrosion defect characterization using active infrared thermography | 17 |
Nondestructive measurement of soluble solids content in apple using near infrared hyperspectral imaging coupled with wavelength selection algorithm | 16 |
Infrared and visible image fusion with ResNet and zero-phase component analysis | 16 |
An infrared small target detection method based on multiscale local homogeneity measure | 12 |
Infrared small target detection based on local intensity and gradient properties | 11 |
Midwave infrared barrier detector based on Ga-free InAs/InAsSb type-II superlattice grown by molecular beam epitaxy on Si substrate | 11 |
SCIE
影響因子 4.2
CiteScore 1.5
SCIE
影響因子 0.9
CiteScore 1.6
SCIE
影響因子 1.8
CiteScore 3.1
SCIE
影響因子 2.7
CiteScore 6.9
SCIE
影響因子 0.5
CiteScore 1.4
SCIE
CiteScore 4
SCIE
影響因子 4.8
CiteScore 6.7
SCIE
CiteScore 2.8
SCIE
影響因子 0.7
CiteScore 1.4
SCIE
影響因子 1.3
CiteScore 2.7
若用戶需要出版服務,請聯(lián)系出版商:ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1000 AE。