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          Journal Of Vacuum Science & Technology A
          人氣:39

          Journal Of Vacuum Science & Technology A SCIE

          • ISSN:0734-2101
          • 出版商:AVS Science and Technology Society
          • 出版語言:English
          • E-ISSN:1520-8559
          • 出版地區:UNITED STATES
          • 是否預警:
          • 創刊時間:1983
          • 出版周期:Bimonthly
          • TOP期刊:
          • 影響因子:2.4
          • 是否OA:未開放
          • CiteScore:5.1
          • H-index:100
          • 研究類文章占比:97.60%
          • Gold OA文章占比:27.03%
          • 文章自引率:0.1034...
          • 開源占比:0.2737
          • OA被引用占比:0.2168...
          • 出版國人文章占比:0.03
          • 出版修正文章占比:0.0102...
          • 國際標準簡稱:J VAC SCI TECHNOL A
          • 涉及的研究方向:材料科學:膜-工程技術
          • 中文名稱:真空科學與技術學報
          • 預計審稿周期: 一般,3-6周
          國內分區信息:

          大類學科:材料科學  中科院分區  3區

          國際分區信息:

          JCR學科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS、PHYSICS, APPLIED  JCR分區  Q3

          • 影響因子:2.4
          • Gold OA文章占比:27.03%
          • OA被引用占比:0.2168...
          • CiteScore:5.1
          • 研究類文章占比:97.60%
          • 開源占比:0.2737
          • 文章自引率:0.1034...
          • 出版國人文章占比:0.03

          推薦合適期刊 投稿指導 助力快速見刊免費咨詢

          Journal Of Vacuum Science & Technology A 期刊簡介

          Journal Of Vacuum Science & Technology A是材料科學領域的一本優秀期刊。由AVS Science and Technology Society出版社出版。該期刊主要發表材料科學領域的原創性研究成果。創刊于1983年,該期刊主要刊載材料科學:膜-工程技術及其基礎研究的前瞻性、原始性、首創性研究成果、科技成就和進展。該期刊不僅收錄了該領域的科技成就和進展,更以其深厚的學術積淀和卓越的審稿標準,確保每篇文章都具備高度的學術價值。此外,該刊同時被SCIE數據庫收錄,并被劃分為中科院SCI3區期刊,它始終堅持創新,不斷專注于發布高度有價值的研究成果,不斷推動材料科學領域的進步。

          同時,我們注重來稿文章表述的清晰度,以及其與我們的讀者群體和研究領域的相關性。為此,我們期待所有投稿的文章能夠保持簡潔明了、組織有序、表述清晰。該期刊平均審稿速度為平均 一般,3-6周 。若您對于稿件是否適合該期刊存在疑慮,建議您在提交前主動與期刊主編取得聯系,或咨詢本站的客服老師。我們的客服老師將根據您的研究內容和方向,為您推薦最為合適的期刊,助力您順利投稿,實現學術成果的順利發表。

          Journal Of Vacuum Science & Technology A 期刊國內分區信息

          中科院分區 2023年12月升級版
          大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
          材料科學 3區 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 3區 3區
          中科院分區 2022年12月升級版
          大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
          材料科學 2區 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 3區 3區
          中科院分區 2021年12月舊的升級版
          大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
          材料科學 3區 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 3區 3區
          中科院分區 2021年12月基礎版
          大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
          工程技術 4區 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 4區 4區
          中科院分區 2021年12月升級版
          大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
          材料科學 3區 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 3區 3區
          中科院分區 2020年12月舊的升級版
          大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
          材料科學 2區 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 2區 3區

          Journal Of Vacuum Science & Technology A 期刊國際分區信息(2023-2024年最新版)

          按JIF指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
          學科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS SCIE Q3 13 / 23

          45.7%

          學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 96 / 179

          46.6%

          按JCI指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
          學科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS SCIE Q3 12 / 23

          50%

          學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 88 / 179

          51.12%

          CiteScore指數(2024年最新版)

          • CiteScore:5.1
          • SJR:0.569
          • SNIP:0.957
          學科類別 分區 排名 百分位
          大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q2 135 / 434

          69%

          大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces and Interfaces Q2 19 / 57

          67%

          大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces, Coatings and Films Q2 45 / 132

          66%

          期刊評價數據趨勢圖

          中科院分區趨勢圖
          期刊影響因子和自引率趨勢圖

          發文統計

          年發文量統計
          年份 2014 2015 2016 2017 2018 2019 2020 2021 2022 2023
          年發文量 221 273 241 232 227 218 293 269 254 333
          國家/地區發文量統計
          國家/地區 數量
          USA 368
          Japan 77
          GERMANY (FED REP GER) 61
          South Korea 56
          France 44
          Sweden 33
          CHINA MAINLAND 31
          England 29
          Finland 26
          Netherlands 26
          機構發文量統計
          機構 數量
          UNITED STATES DEPARTMENT OF ENERGY (DOE) 58
          CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) 30
          UNITED STATES DEPARTMENT OF DEFENSE 26
          LINKOPING UNIVERSITY 25
          UNIVERSITY OF ILLINOIS SYSTEM 24
          UNIVERSITY OF CALIFORNIA SYSTEM 20
          CEA 18
          UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM 17
          UNIVERSITY SYSTEM OF MARYLAND 17
          LAM RESEARCH CORPORATION 16

          高引用文章

          文章名稱 引用次數
          Review Article: Stress in thin films and coatings: Current status, challenges, and prospects 72
          Status and prospects of plasma-assisted atomic layer deposition 26
          Practical guides for x-ray photoelectron spectroscopy: First steps in planning, conducting, and reporting XPS measurements 23
          Functional model for analysis of ALD nucleation and quantification of area-selective deposition 19
          Review Article: Catalysts design and synthesis via selective atomic layer deposition 16
          Paradigm shift in thin-film growth by magnetron sputtering: From gas-ion to metal-ion irradiation of the growing film 14
          Review Article: Atomic layer deposition for oxide semiconductor thin film transistors: Advances in research and development 14
          Atomic layer deposition of silicon-based dielectrics for semiconductor manufacturing: Current status and future outlook 13
          Review Article: Crystal alignment for high performance organic electronics devices 12
          Vapor-deposited octadecanethiol masking layer on copper to enable area selective Hf3N4 atomic layer deposition on dielectrics studied by in situ spectroscopic ellipsometry 11

          免責聲明

          若用戶需要出版服務,請聯系出版商:A V S AMER INST PHYSICS, STE 1 NO 1, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, MELVILLE, USA, NY, 11747-4502。

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