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Opto-electronic Advances是物理與天體物理領(lǐng)域的一本權(quán)威期刊。由CHINESE ACAD SCI, INST OPTICS & ELECTRONICS, ED OFF OPTO-ELECTRONIC ADV出版社出版。該期刊主要發(fā)表物理與天體物理領(lǐng)域的原創(chuàng)性研究成果。是物理與天體物理領(lǐng)域中具有代表性的學(xué)術(shù)刊物。該期刊主要刊載OPTICS及其基礎(chǔ)研究的前瞻性、原始性、首創(chuàng)性研究成果、科技成就和進(jìn)展。該期刊不僅收錄了該領(lǐng)域的科技成就和進(jìn)展，更以其深厚的學(xué)術(shù)積淀和卓越的審稿標(biāo)準(zhǔn)，確保每篇文章都具備高度的學(xué)術(shù)價(jià)值。此外，該刊同時(shí)被SCIE數(shù)據(jù)庫收錄，并被劃分為中科院SCI1區(qū)期刊，相當(dāng)于A級(jí)期刊（最高刊物級(jí)別），它始終堅(jiān)持創(chuàng)新，不斷專注于發(fā)布高度有價(jià)值的研究成果，不斷推動(dòng)物理與天體物理領(lǐng)域的進(jìn)步。
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| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 1區(qū) | OPTICS 光學(xué) | 1區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 1區(qū) | OPTICS 光學(xué) | 1區(qū) | 是 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 1區(qū) | OPTICS 光學(xué) | 1區(qū) | 是 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理 | 1區(qū) | OPTICS 光學(xué) | 1區(qū) | 是 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 1區(qū) | OPTICS 光學(xué) | 1區(qū) | 是 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 4區(qū) | OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) | 否 | 否 |
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q1 | 7 / 119 |
94.5% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q1 | 5 / 120 |
96.25% |
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Engineering 小類：Electrical and Electronic Engineering | Q1 | 22 / 797 |
97% |
| 大類：Engineering 小類：Surfaces, Coatings and Films | Q1 | 5 / 132 |
96% |
| 大類：Engineering 小類：Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q1 | 10 / 224 |
95% |
| 大類：Engineering 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q1 | 14 / 284 |
95% |
| 年份 | 2014 | 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 |
| 年發(fā)文量 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 36 | 43 | 52 | 50 |
| 國家/地區(qū) | 數(shù)量 |
| CHINA MAINLAND | 60 |
| Singapore | 10 |
| Japan | 9 |
| Australia | 6 |
| USA | 4 |
| GERMANY (FED REP GER) | 3 |
| Greece | 3 |
| England | 2 |
| France | 2 |
| BELARUS | 1 |
| 機(jī)構(gòu) | 數(shù)量 |
| CHINESE ACADEMY OF SCIENCES | 17 |
| NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY & NATIONAL INSTITUTE OF EDUCATION (NIE) SINGAPORE | 5 |
| NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE | 5 |
| PEKING UNIVERSITY | 4 |
| ROYAL MELBOURNE INSTITUTE OF TECHNOLOGY (RMIT) | 4 |
| FOUNDATION FOR RESEARCH & TECHNOLOGY - HELLAS (FORTH) | 3 |
| HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE & TECHNOLOGY | 3 |
| JILIN UNIVERSITY | 3 |
| SHANXI UNIVERSITY | 3 |
| SHENZHEN UNIVERSITY | 3 |
| 文章名稱 | 引用次數(shù) |
| Tunable and reconfigurable metasurfaces and metadevices | 67 |
| All-metallic wide-angle metasurfaces for multifunctional polarization manipulation | 22 |
| Enhancement of laser ablation via interacting spatial double-pulse effect | 21 |
| An accurate design of graphene oxide ultrathin flat lens based on Rayleigh-Sommerfeld theory | 19 |
| Additive manufacturing frontier: 3D printing electronics | 18 |
| Nonlinear frequency conversion in optical nanoantennas and metasurfaces: materials evolution and fabrication | 18 |
| Fabrication of three-dimensional proteinaceous micro- and nano-structures by femtosecond laser cross-linking | 16 |
| Surface plasmon enhanced infrared photodetection | 14 |
| Hierarchical microstructures with high spatial frequency laser induced periodic surface structures possessing different orientations created by femtosecond laser ablation of silicon in liquids | 13 |
| Perfect electromagnetic and sound absorption via subwavelength holes array | 12 |
SCIE
影響因子 4.2
CiteScore 1.5
SCIE
影響因子 0.9
CiteScore 1.6
SCIE
影響因子 1.8
CiteScore 3.1
SCIE
影響因子 2.7
CiteScore 6.9
SCIE
影響因子 0.5
CiteScore 1.4
SCIE
CiteScore 4
SCIE
影響因子 4.8
CiteScore 6.7
SCIE
CiteScore 2.8
SCIE
影響因子 0.7
CiteScore 1.4
SCIE
影響因子 1.3
CiteScore 2.7
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